微機(jī)控制靜電吸盤(pán)測(cè)試臺(tái) 一 基本功能： 靜電吸盤(pán)的吸附原理主要基于靜電吸附。在沒(méi)有等離子體的環(huán)境下，當(dāng)直流電極接通到高壓（低流）直流電源后，電介質(zhì)的表面會(huì)產(chǎn)生極化電荷。對(duì)于庫(kù)侖吸盤(pán)（吸盤(pán)不同種類(lèi)中的一種）而言，這會(huì)導(dǎo)致電介質(zhì)表面出現(xiàn)極化電荷。而對(duì)于JR吸盤(pán)，除了極化電荷外，還有一部分自由電荷，因?yàn)檫@類(lèi)吸盤(pán)的電介質(zhì)具有一定的導(dǎo)電性。這些表面電荷會(huì)產(chǎn)生電場(chǎng)，該電場(chǎng)進(jìn)一步在置于吸盤(pán)之上的晶片表面產(chǎn)生極化電荷，這些電荷的分布與吸盤(pán)上的電荷極性相反。當(dāng)晶片背面分布的電荷與吸盤(pán)上相反時(shí)，晶片就被吸盤(pán)吸附住了。靜電吸盤(pán)通過(guò)施加外部高壓，利用靜電吸附力或J-R吸附力來(lái)固定硅片。這種吸附力使得硅片能夠被穩(wěn)定地固定在吸盤(pán)上，以滿足半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的應(yīng)用需求。 為了保證晶圓不與吸盤(pán)接觸， 吸盤(pán)表面均布氦氣孔， 用于生產(chǎn)氣墊拖住晶圓 ， 使之與電極產(chǎn)生的吸力平衡 二 測(cè)試原理： 微機(jī)控制靜電吸盤(pán)測(cè)試臺(tái)配置不同規(guī)格晶圓尺寸的被動(dòng)吸盤(pán)， 吸盤(pán)背面預(yù)留對(duì)應(yīng)出氣孔位置的氣體接口， 每個(gè)接口用于連接對(duì)應(yīng)的壓力和流量傳感器， 最多預(yù)留16路接口， 16路的壓力和流量對(duì)應(yīng)顯示在計(jì)算機(jī)上， 被動(dòng)吸盤(pán)整體與測(cè)力傳感器連接， 當(dāng)靜電吸盤(pán)工作時(shí)， 可以測(cè)試不同電壓下和不同的氣體流量壓力時(shí) ， 實(shí)時(shí)對(duì)外輸出的力， 可以校正不同電壓時(shí)，對(duì)應(yīng)不同的氣體流量，分別輸出的實(shí)際吸力，并且實(shí)時(shí)顯示每一路氣體的壓力流量， 用于校正晶圓整體受力是否均勻。 
三 微機(jī)控制靜電吸盤(pán)測(cè)試臺(tái)基本參數(shù) 1. 最大吸附力：500N 2. 力值精度：±0.5% 3. 適配晶圓規(guī)格：10/8/5寸 4. 傳感器壓力范圍：0.1-50torr 5. 傳感器流量范圍：0.1-500sccm 6. 傳感器精度：±1% 7. 傳感器供電：24V 8. 系統(tǒng)耐壓等級(jí)：1000V 9. 外形尺寸：1200*950*1650 10. 整機(jī)功率：2kw 11. 整機(jī)重量：260kg 四 微機(jī)控制靜電吸盤(pán)測(cè)試臺(tái)基本配置： 1. 鋁合金臺(tái)架 一套 2. 大理石臺(tái)面 一套 3. 垂向移動(dòng)滑臺(tái) 一套 4. 吸盤(pán)安裝座 一套 5. 被動(dòng)吸盤(pán) 一套 6. 氣體轉(zhuǎn)接板 一套 7. 壓力傳感器 16支 8. 流量傳感器 16支 9. 通訊轉(zhuǎn)換器 1臺(tái)（35路） 10. 計(jì)算機(jī)及軟件 一套 11. 隨機(jī)工具 一套 12. 防靜電腳墊 若干 13. 防靜電手環(huán) 2副 標(biāo)簽：微機(jī)控制靜電吸盤(pán)測(cè)試臺(tái)
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